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光刻膠底抗反射涂層

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
至昕有機(jī)硅光刻膠底抗反射涂層主要由硅樹脂、光引發(fā)劑、溶劑等組成，可有效減少反射和駐波效應(yīng)、凹缺效應(yīng)，提高尺寸均一性和圖案分辨率。

產(chǎn)品特性

  • 高折射系數(shù)
  • 高紫外光吸收率

產(chǎn)品應(yīng)用

半導(dǎo)體集成電路制造